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本設(shè)備為通用標(biāo)準(zhǔn)型蒸發(fā)式光學(xué)真空鍍膜設(shè)備，加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，可對基材進(jìn)行真空鍍膜，支持光學(xué)、半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過程。設(shè)備構(gòu)合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便，能耗低、工作穩(wěn)定，且膜層均勻、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)。主要用于各類AR膜、AF膜、冷光膜、濾光片、高反膜、ITO透明導(dǎo)電材膜等鍍制。