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支持實驗內(nèi)容：

（1）光刻機設備的基本操作實驗

實驗目的：熟悉光刻機的開機、對準、曝光、圖像化設計等基本操作流程及注意事項。

（2）多類型光刻圖形設計實驗

實驗目的：利用光刻系統(tǒng)的圖形化設計功能，設計線條、形狀、轉(zhuǎn)角、異形等各類圖形，通過試驗了解光刻機的圖像化轉(zhuǎn)移工藝。

（3）勻膠工藝對光刻膠厚度影響實驗

實驗目的：通過試驗光刻膠類型、膠量、勻膠速度、時間等工藝參數(shù)，了解勻膠工藝對光刻膠厚度的影響。

（4）膠的厚度對光刻圖形的影響實驗

實驗目的：通過試驗光刻膠類型、厚度等參數(shù)，了解膠的厚度對光刻后的圖形質(zhì)量的影響。

（5）堅膜工藝對光刻圖案的影響實驗

實驗目的：通過試驗前烘和后烘的溫度、時間等工藝參數(shù)，了解過烘、正常、欠烘等工藝對光刻圖形質(zhì)量的影響。

（6）曝光工藝對光刻圖案的影響實驗

實驗目的：通過試驗曝光時間、劑量等參數(shù)，了解過曝光、正常曝光、欠曝光等工藝對圖形質(zhì)量的影響。

（7）顯影工藝對光刻圖案的影響實驗

實驗目的：通過試驗顯影時間、溫度等參數(shù)，了解過顯、正常、欠顯等工藝對圖形質(zhì)量的影響。