本設(shè)備為通用型的自動(dòng)真空磁控濺射設(shè)備，可對(duì)基材進(jìn)行真空濺射鍍膜，除了濺射金、銀、鉑、鉻、鋁等金屬材料和氧化物，并保證良好粘附性，并能適應(yīng)每天24小時(shí)不間斷的運(yùn)行方式。
本設(shè)備為通用型的自動(dòng)真空磁控濺射設(shè)備，可對(duì)基材進(jìn)行真空濺射鍍膜，除了濺射金、銀、鉑、鉻、鋁等金屬材料和氧化物，并保證良好粘附性，并能適應(yīng)每天24小時(shí)不間斷的運(yùn)行方式。
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OTKS-900I磁控濺射鍍膜機(jī) |
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設(shè)備型號(hào) |
OTKS-900I |
空載恢復(fù)真空 |
2×10－3Pa≤10min |
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靶源 |
圓靶/矩形靶/柱靶 |
設(shè)備電源 |
380V50Hz交流 |
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靶位數(shù) |
2-3 |
工作托盤(pán)調(diào)速 |
轉(zhuǎn)速0～30rpm，徑向跳動(dòng)<±1mm |
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靶尺寸 |
6英寸（可選） |
設(shè)備壓縮空氣 |
氣壓0.4~0.6MPa |
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靶材尺寸 |
φ150mm@6英寸靶 |
高壓力自清洗機(jī) |
轟擊電壓1000-2500V可調(diào)可（選配） |
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工作托盤(pán) |
<φ200mm的圓片 |
環(huán)境溫度 |
10～35℃ |
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真空室內(nèi)腔尺寸 |
900*700（mm） |
相對(duì)濕度 |
不大于80% |
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濺射源 |
DC電源/MF電源/RF電源（13.56MHz） |
設(shè)備自重 |
約3.0T |
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真空系統(tǒng) |
分子泵+雙極旋轉(zhuǎn)片泵 |
控制 |
PLC半自動(dòng)/全自動(dòng) |
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空載極限真空 |
8.0 ×10-5Pa （空載24小時(shí)） |
設(shè)備冷卻水 |
工業(yè)軟水或循環(huán)水源，使用水壓0.2～0.4Mpa，最高水壓＜0.45 Mpa；水量>20L/min，水溫18-25℃。 |
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靶尺寸，靶位數(shù)，真空室內(nèi)腔尺寸可根據(jù)用于需求配置 |
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