本設(shè)備為針對教學，科研驗證而設(shè)計的小型蒸發(fā)式光學真空鍍膜設(shè)備，加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，可對基材進行真空鍍膜，支持光學、半導體工藝教學和科研過程。設(shè)備構(gòu)合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便，能耗低、工作穩(wěn)定，且膜層均勻、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點。主要用于各類AR膜、AF膜、冷光膜、濾光片、高反膜、ITO透明導電材膜等鍍制。
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OTKO-700E蒸發(fā)式鍍膜機 |
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設(shè)備型號 |
OTKO-700E |
真空系統(tǒng) |
冷泵+雙級旋片泵+羅茨泵 |
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真空室內(nèi)腔尺寸 |
700*1000（mm） |
蒸發(fā)源 |
雙槍+固定阻蒸 |
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晶控 |
MXC-3B+6探頭 |
空載恢復(fù)真空 |
2.0 ×10-3Pa <15min |
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空載極限真空 |
8.0 ×10-5Pa （空載24小時） |
選件 |
離子源、POLYCOLD |
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加熱溫度 |
<300℃ |
設(shè)備自重 |
2T |
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設(shè)備電源 |
380V50Hz交流 |
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真空室內(nèi)腔尺寸、泵組可以可根據(jù)用于需求配置 |
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蘇州工業(yè)園區(qū)仁愛路99號D115室
