本設(shè)備為針對教學(xué)，科研驗(yàn)證而設(shè)計(jì)的自動真空磁控濺射設(shè)備，可對基材進(jìn)行真空濺射鍍膜，除了濺射金、銀、鉑等高價(jià)格材料，還可以濺射鉻、鋁等低價(jià)值金屬材料，并保證良好粘附性，從而控制成本，支持半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過程。
本設(shè)備為針對教學(xué)，科研驗(yàn)證而設(shè)計(jì)的自動真空磁控濺射設(shè)備，可對基材進(jìn)行真空濺射鍍膜，除了濺射金、銀、鉑等高價(jià)格材料，還可以濺射鉻、鋁等低價(jià)值金屬材料，并保證良好粘附性，從而控制成本，支持半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過程。
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OTKS-400E磁控濺射鍍膜機(jī) |
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設(shè)備型號 |
OTKS-400E |
空載恢復(fù)真空 |
大氣至3×10－3Pa≤20min |
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靶源 |
圓靶、矩形靶 |
設(shè)備電源 |
380V50Hz交流 |
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靶位數(shù) |
1-3 |
工作托盤調(diào)速 |
轉(zhuǎn)速0～30rpm，徑向跳動<±1mm |
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靶尺寸 |
2-4英寸（可選） |
設(shè)備壓縮空氣 |
氣壓0.4~0.6MPa |
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靶材尺寸 |
φ50mm@2英寸靶 |
高壓力自清洗機(jī) |
轟擊電壓1000-2500V可調(diào)可（選配） |
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工作托盤 |
<φ80mm的圓片 |
環(huán)境溫度 |
10～35℃ |
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真空室內(nèi)腔尺寸 |
400*350（mm） |
相對濕度 |
不大于80% |
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電源 |
DC 1KW |
設(shè)備自重 |
約1.0T |
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真空系統(tǒng) |
分子泵 |
控制 |
PLC半自動/全自動 |
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空載極限真空 |
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靶尺寸，靶位數(shù)，真空室內(nèi)腔尺寸可根據(jù)用于需求配置 |
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