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光刻工藝實(shí)驗(yàn)室解決方案-光刻工藝實(shí)驗(yàn)室-歐泰克測控技術(shù)(蘇州)有限公司
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    支持實(shí)驗(yàn)內(nèi)容:

    (1)光刻機(jī)設(shè)備的基本操作實(shí)驗(yàn)

    實(shí)驗(yàn)?zāi)康模菏煜す饪虣C(jī)的開機(jī)、對準(zhǔn)、曝光、圖像化設(shè)計(jì)等基本操作流程及注意事項(xiàng)。

    (2)多類型光刻圖形設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)

    實(shí)驗(yàn)?zāi)康模豪霉饪滔到y(tǒng)的圖形化設(shè)計(jì)功能,設(shè)計(jì)線條、形狀、轉(zhuǎn)角、異形等各類圖形,通過試驗(yàn)了解光刻機(jī)的圖像化轉(zhuǎn)移工藝。

    (3)勻膠工藝對光刻膠厚度影響實(shí)驗(yàn)

    實(shí)驗(yàn)?zāi)康模和ㄟ^試驗(yàn)光刻膠類型、膠量、勻膠速度、時(shí)間等工藝參數(shù),了解勻膠工藝對光刻膠厚度的影響。

    (4)膠的厚度對光刻圖形的影響實(shí)驗(yàn)

    實(shí)驗(yàn)?zāi)康模和ㄟ^試驗(yàn)光刻膠類型、厚度等參數(shù),了解膠的厚度對光刻后的圖形質(zhì)量的影響。

    (5)堅(jiān)膜工藝對光刻圖案的影響實(shí)驗(yàn)

    實(shí)驗(yàn)?zāi)康模和ㄟ^試驗(yàn)前烘和后烘的溫度、時(shí)間等工藝參數(shù),了解過烘、正常、欠烘等工藝對光刻圖形質(zhì)量的影響。

    (6)曝光工藝對光刻圖案的影響實(shí)驗(yàn)

    實(shí)驗(yàn)?zāi)康模和ㄟ^試驗(yàn)曝光時(shí)間、劑量等參數(shù),了解過曝光、正常曝光、欠曝光等工藝對圖形質(zhì)量的影響。

    (7)顯影工藝對光刻圖案的影響實(shí)驗(yàn)

    實(shí)驗(yàn)?zāi)康模和ㄟ^試驗(yàn)顯影時(shí)間、溫度等參數(shù),了解過顯、正常、欠顯等工藝對圖形質(zhì)量的影響。

                                

                           

                                

                               

                              




                 
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